旋风清洁/除尘/除异物系统目前在如下场景有应用：1)FAB设备中内置轻型旋风模组头，以辅助搬运机器人传递晶圆过程中的清洁。2)晶圆Grinding Disk Wheel的旋风清洁。3)晶圆切割后的异物去除。4)内存芯片激光器标记后残留异物的去除。5)芯片流转用托盘异物的去除。6)芯片贴片前后的去除异物，武汉功能薄膜除异物设备，武汉功能薄膜除异物设备。除异物设备针对高效率光刻胶去除工艺到芯片封装领域独特的工艺，适用于芯片封装批理生产的多功能设备，满足客户需求，适合大批量生产，也能满足实验室要求。除异物设备针对光刻胶去除到芯片封装工艺设计用于基板表面处理；晶圆表面污染物去除；BGA植球前处理；改善金球焊接；改善压膜分层；改善倒装焊底部填充；掩膜去除；环氧树脂去除；改善塑封/封胶，武汉功能薄膜除异物设备。晶圆级封装前采用除异物设备处理的能去除表面的无机物，还原氧化层，增加铜表面的粗糙度，提高产品的可靠性。晶圆除异物设备适用于晶圆级和3D封装应用的理想设备。武汉功能薄膜除异物设备

旋风清洁目前应用在芯片封装领域，并可根据用户客户需求扩大应用：-CPU Board制造时的清洁工程–DRAM器件芯片的BOC封装清洁–FCBGA倒装芯片球栅格阵列、图形加速芯片实装前的清洁–FBGA Board基板、印刷、镀层、背胶、AOI检测等制造环节的清洁。为什么要使用除异物设备呢？随着工艺点减少挤压良品率，就势将促进清洁设备的需求上升。由于工艺节点缩小，经济效益要求半导体企业在清洁工艺上不断突破，提高清洁设备的工艺参数要求。有效的非破坏性清洁将是制造商所面临的一大挑战，特别是10nm芯片，7nm芯片，甚至更小的芯片。晶圆片清洁质量的好坏对器件性能有严重的影响，其主要原因是圆片表面沾污造成的，这些沾污包括：超细微的颗粒、有机残留物、无机残留物和需要去除的氧化层；颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率。在目前的集成电路生产中，由于晶圆片表面沾污问题，导致50%以上的材料被损耗掉和80%的芯片电学失效。武汉功能薄膜除异物设备除异物设备能有效去除键合区的表面污染，活化表面，显著提高引线的键合张力。

各种晶圆的制程工艺极其精密复杂，各大厂有不同的工艺管控能力。作为前后道主制程工艺的辅助清洁设备单元，旋风清洁/除尘/除异物系统，以非接触式、高效清洁、方便加装等优势，得到了晶圆厂及设备商的采用。在半导体生产工艺中，几乎每道工序中都需要进行清洁，晶圆清洁质量的好坏对器件性能有严重的影响。正是由于晶圆清洁是半导体制造工艺中比较重要、比较频繁的工步，而且其工艺质量将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性，除异物设备作为一种先进的干式清洁技术，具有绿色环保等特点，随着微电子行业的迅速发展，除异物设备也在半导体行业的应用越来越多。随着人们对能源的需求越来越高，晶圆以其高效，环保，安全的优势得到快速的发展。

作为前后道主制程工艺的辅助清洁设备单元，旋风清洁/除尘/除异物系统，以非接触式、高效清洁、方便加装等优势，得到了晶圆厂及设备商的采用。半导体晶圆暴露在含氧气及水的环境下表面会形成自然氧化层。这层氧化薄膜不但会妨碍半导体制造的许多工步，还包含了某些金属杂质，在一定条件下，它们会转移到晶圆中形成电学缺陷。这层氧化薄膜的去除常采用稀氢氟酸浸泡完成。除异物设备在半导体晶圆清洁工艺上的应用除异物设备具有工艺简单、操作方便、没有废料处理和环境污染等问题。但它不能去除碳和其它非挥发性金属或金属氧化物杂质。除异物设备常用于光刻胶的去除工艺中，这种清洁技术在去胶工艺中具有操作方便、效率高、表面干净、无划伤、有利于确保产品的质量等优点，而且它不用酸、碱及有机溶剂等，因此越来越受到人们重视。晶圆级封装前采用除异物设备处理的能去除表面的无机物，还原氧化层。

平面对应型-旋风超高精密除尘模组设备是指对表面为水平面的器件、组件进行非接触式清洁。除异物设备现在正应用于LCD、LED、IC，PCB，SMT、BGA、引线框架、平板显示器等领域。除异物设备处理过的IC可显著提高焊线邦定强度，减少电路故障的可能性；溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于除异物设备区域中，短时间内就能去除。PCB制造商用除异物设备处理来去除污物和带走钻孔中的绝缘物。对许多产品，不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业，其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物，经过除异物设备处理以后都能有效地提高粘合力，从而提高产品的质量。除异物设备在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。在倒装芯片封装方面，对芯片和封装载体进行除异物处理，可以得到超清洁的焊接表面。成都镜片除异物设备

晶圆除异物设备用于在晶圆凸点工艺前去除污染。武汉功能薄膜除异物设备

卷对卷（薄膜、卷板)对应型-旋风超高精密除尘模组设备目前已应用的行业有，新能源材料、光学薄膜、复合功能膜、MLCC器件制造、新型钢板、特殊纸张等领域。光学膜除异物设备用途：适用于清洁各种扩散片、偏光片、反射片、菱镜片、保护膜、复合型光学膜片等的表面静电、微尘、毛屑杂质等，提高生产效率和产品质量。光学膜除异物设备应用制程领域：涂布、裁切、分条、组装、检查、包装等作业的板面清洁。人机操控界面，更方便使用和维护保养，减少二次污染，且系统操作简单，节约了大量劳动力，明显减少了人工成本及相关管理成本。光学膜除异物设备采用紧凑型驱动不锈钢支撑胶辊，解决了加工薄材料的一大难题。这些支撑胶辊将薄材料托送到清洁胶辊处，确保通过清洁机时的平稳过渡。武汉功能薄膜除异物设备

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