深度确定电路208被配置为从检测器206接收图像获取数据，并且基于参考平面确定横跨物体表面上的多个点的一个或多个空间测量结果。可以基于投射到物体上的光图案的扭曲计算得出这些测量结果。这种图像处理可以使用本行业的公知技术，例如，标准测距或三角测量方法。在一些实施例中，光驱动器电路210被包括在光投影仪系统102中并且被配置为控制光源202的操作。因此，光驱动器电路210可以被配置为向光源202提供功率，更具体地控制应用于光源202的功率的占空比。在一些实施例中，深度确定电路208可以向源驱动器电路210提供信号，以改变光源202的操作方式。例如，如果深度确定电路208发现接收图像太模糊而无法做出有意义的确定，则其可以向源驱动器电路210提供信号以增大光源202的功率输出或占空比。可以提供处理器212以执行数字重建3d物体所需要的任何附加计算。处理器212可以是任何通用处理设备或微控制器，如根据本公开将明白的。在一些实施例中，处理器212被配置为将数字重建的3d物体存储在存储器(未示出)中。所存储的数字3d物体可以用类型，四川定制红外透镜，四川定制红外透镜、位置，四川定制红外透镜、尺寸、或任何其他符合条件的因素进行索引。所存储的3d数字物体可以被诸如图像识别软件之类的各种应用使用。菲涅尔透镜测试故障维修。四川定制红外透镜

来自具有不同波长的两个波束的斑点图案变得不相关。这意味着应该设计各种vcsel的孔径宽度以使得vcsel之间的发射波长差由下式给出：δλ≥λ2/2z(1)其中，z是物体的照明表面的表面剖面高度变化。对于940nm的示例峰值发射波长和z＝，波长差应≥。图5是示出根据实施例的具有不同孔径宽度的两个不同vcsel阵列的激光光谱的图表。顶部的光谱是从***vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有4μm的孔径宽度。底部的光谱是从第二vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有2μm的孔径宽度。从光谱可以看出，具有较大孔径大小的***vcsel阵列包括两种横向激光模式和具有973nm左右的峰值波长的主导模式。与之对照，第二vcsel阵列*包括其峰值波长在972nm左右的单个激光模式。通过改变孔径大小，可以改变横向激光模式的数目和发射的峰值波长，从而产生不同的斑点图案。图6示出了根据实施例的具有衬底302的光源的另一示例，其中，该衬底包括具有不同孔径宽度的vcsel结构的各种区域。衬底302包括具有***孔径宽度(d1)的多个vcsel的***区域602、具有第二孔径宽度(d2)的多个vcsel的第二区域604、具有第三孔径宽度(d3)的多个vcsel的第三区域606、以及具有第四孔径宽度。湖北制造红外透镜设计菲涅尔透镜的应用发展趋势。

透镜中心被定义为坐标原点，水平方向为x轴，垂直方向为y轴。空气的折射率为1，透镜的折射率n(y)沿y轴变化，例如y＝0时透镜的折射率为n(0)，y＝l/2时透镜的折射率为n(l/2)，声学超材料透镜的长度设为l＝200mm，宽设为w＝60mm，折射率变化范围为～，因此n(0)＝，n(l/2)＝，由此可得任一y值的折射率n(y)与n(0)、n(l/2)的关系为：我们取f＝180mm，可得一维聚焦透镜折射率公式n(y)为：由公式(2)可得聚焦透镜的折射率分布如图4(b)所示，图4(c)为聚焦透镜在工作频率7000hz的仿真结果，可以看出与入射的高斯波相比，出射波在距透镜约为180mm处汇聚成一点。类似的，对于发散透镜，图5(a)为发散透镜的原理图，n(0)＝，n(l/2)＝，取f＝180mm，折射率公式为：图5(b)为发散透镜的折射率分布，图5(c)为发散透镜在工作频率7000hz的仿真结果，可以看出与入射的高斯波相比，出射波波形呈圆弧形发散的趋势。对于偏折透镜，图6(a)为偏折透镜的原理图，n(-l/2)＝，n(l/2)＝，取偏折角α＝°，折射率公式为：图6(b)为偏折透镜的折射率分布，图6(c)为偏折透镜在工作频率7000hz的仿真结果，可以看出与入射的高斯波相比，出射波向透镜折射率大的一侧偏折了约为°。对于高透射透镜，图7。

因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。菲涅尔透镜螺距代理价格。

集成电路(ic)、**集成电路(asic)、片上系统(soc)、桌面型计算机、膝上型计算机、平板计算机、服务器、智能电话等。其他实施例可以被实现为由可编程控制设备执行的软件。如本文描述的，各种实施例可以使用硬件元件、软件元件、或它们的任意组合实现。硬件元件的示例可以包括处理器、微处理器、电路、电路元件(例如，晶体管、电阻器、电容器、电感器等)、集成电路、**集成电路(asic)、可编程逻辑器件(pld)、数字信号处理器(dsp)、现场可编程门阵列(fpga)、逻辑门、寄存器、半导体器件、芯片、微芯片、芯片集等。本文提出了很多具体细节，以提供对实施例的透彻理解。但是，将明白的是，可以在没有这些具体细节的条件下实施实施例。另外，尽管以特定于结构特征和/或方法动作的语言描述了主题，但是将理解的是，所附权利要求中限定的主题不一定局限于本文描述的具体特征或动作。相反，本文描述的具体特征和动作被作为实现权利要求的示例形式公开。另外的示例实施例下面的示例涉及另外的实施例，根据这些实施例多种排列和配置将是明显的。示例1是一种激光源。该激光源包括衬底、一个或多个***vscel结构、以及一个或多个第二vcsel结构。一个或多个***vcsel结构在衬底的表面上。圆形菲涅尔透镜24小时服务客服电话。辽宁远红外透镜

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