并且每个第二vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸。本申请另一方面提供了一种激光源。该激光源包括：衬底；vcsel结构，vcsel结构在衬底的表面上并且在衬底的表面上方延伸，vcsel结构具有顶层；以及多个亚波长结构，多个亚波长结构在vcsel结构的顶层上，其中，多个亚波长结构中的一个或多个亚波长结构包括芯材和壳材，壳材在芯材的一个或多个表面。附图说明参考附图，随着下面的详细描述的继续，请求保护的主题的实施例的特征和优点将变得明显，在附图中：图1示出了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统。图2提供了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统的更详细的图示，广东微型红外透镜结构，广东微型红外透镜结构。图3示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自顶向下的视图。图4示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的侧视图。图5提供了根据本公开的实施例的具有不同孔径宽度的设备的示例激光光谱。图6示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自顶向下的视图。图7示出了根据本公开的实施例的具有亚波长结构的光源的一部分的侧视图，广东微型红外透镜结构。图8示出了根据本公开的实施例的亚波长结构的更详细的视图。图9a至9c示出了根据本公开的实施例的示例亚波长结构。正菲涅尔透镜常见问题有哪些？广东微型红外透镜结构

并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。辽宁远红外透镜生产企业菲涅尔透镜组生产厂家电话多少？

由于激光斑点的出现从一开始(实际上在图像捕捉时，通过激光源设计)就被管理或以其他方式减少，所以也消除或以其他方式降低了对于捕捉图像上的基于斑点的后处理的需求。根据实施例，用在结构化光投影仪中的激光源包括衬底、布置在衬底上的一个或多个***vcsel、以及布置在衬底上的一个或多个第二vcsel。一个或多个***vcsel各自具有***孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。一个或多个第二vcsel各自具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。使用具有不同孔径宽度的vcsel的阵列提供了具有不同波长的发射辐射，从而提供了不同的斑点图案。当在检测器上被接收时不同的斑点图案被平均，此时斑点噪声被减少或基本消除。从各种vcsel结构发射的光可以被调制，以在物体上形式特定图案(网格、点阵等)。调制可以包括创建相长干涉和相消干涉的区域，以有效地将光输出“图案化”为任何期望的图案。可以使用各种技术对光进行调制，这些技术包括诸如透镜和衍射元件之类的光学组件的结合。但是，本文描述的实施例将包括两种或更多材料的亚波长结构(sws)直接集成到vcsel结构上以操控光输出。

图3示出了根据实施例的光源202或者光源202的至少一部分的自顶向下的视图。光源202包括衬底302，该衬底具有布置在衬底302的表面上的多个vcsel结构304。在一些实施例中，衬底302可以是：包括第iv族半导体材料(例如，si、ge、sige)、第iii-v族半导体材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根据本公开将明白的任何一种或多种其他适当材料的大块衬底；绝缘体上的x(xoi)结构，其中，x是前述材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一，绝缘体材料是氧化物材料或介电材料或者一些其他电绝缘材料，从而xoi结构包括两个半导体层之间的电绝缘材料层；或者一些其他适当的多层结构，其中，顶层包括前述半导体材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一。这里使用的“第iv族半导体材料”(或“第iv族材料”或统称“iv”)在包括至少一种第iv族元素(例如，硅、锗、碳、锡)，例如，硅(si)、锗(ge)、硅锗(sige)等。这里使用的“第iii-v族半导体材料”(或“第iii-v族材料”或统称“ii-v”)包括至少一种第iii族元素(例如，铝、镓、铟)和至少一种第v族元素(例如，氮、磷、砷、锑、铋)，例如，砷化镓(gaas)、砷化镓铟(ingaas)、砷化铝铟(inalas)、磷化镓(gap)、锑化镓(gasb)、磷化铟。小菲涅尔透镜常见问题有哪些？

亚波长结构包括用作谐振光学天线的比光波长更小的表面结构的密集布置。光表面结构交互的谐振性质提供了操纵光学波振面的能力。根据另一实施例，激光源包括衬底、vcsel结构、以及多个亚波长结构。vcsel结构被布置在衬底的表面上，并且在衬底的表面上方延伸。多个亚波长结构被布置在vcsel结构的顶层。多个亚波长结构中的一个或多个亚波长结构包括芯材和放置在芯材的一个或多个表面上的壳材。注意，如根据本公开将明白的，亚波长结构可以结合本文中根据一些实施例提供的vcsel结构或者根据其他实施例的任何其他vcsel结构使用。vcsel阵列架构图1示出了根据本公开的实施例的用于创建物体104的3d图像的示例光投影仪系统102。物体104可以是放置在与光投影仪系统102相距给定距离处的任意尺寸或形状的物体。光投影仪系统102被设计为向物体104发射辐射106并接收反射辐射108，以生成物体104的3d图像或模型。将参考图2进一步详细论述光投影仪系统102的示例组件。发射的辐射106在物体104的一个或多个表面上形成光图案110。光图案110可以是网格(如图1所示)或者可以具有任何其他预定图案。来自光图案110的反射辐射108被用来确定横跨物体104的各个点的深度。菲涅尔透镜图材料模板有哪些？湖北制造红外透镜设计

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适当的结构化光投影仪通常包括激光设备，该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是，存在与这种配置相关联的局限。例如，使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差，因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如，比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于，其给出了比较高峰值的位置，但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式，该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是，这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗，并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此，根据本公开的实施例，结构化光投影仪采用新型激光源设计，该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。广东微型红外透镜结构

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