在显示屏制作工艺中增加减薄工艺，通过物理和化学方法使显示器厚度达到轻薄化的目的，目前玻璃化学腐蚀工艺主要使用氢氟酸混合物对液晶玻璃进行减薄，减薄时使用刻蚀液的刻蚀方式有浸泡式，浙江铁管减薄机公司、液晶玻璃双面喷洒式以及以及单面的瀑布流式，由于浸泡式、液晶玻璃双面喷洒式都具有刻蚀后表面不光滑的现象，浙江铁管减薄机公司，所以越来越多的使用瀑布流式。现有技术对于液晶玻璃减薄，液晶玻璃的刻蚀工艺以及清洗工艺是分开操作，操作过程较为繁琐，喷洒机构满足不了液晶玻璃的瀑布流式刻蚀，为此，浙江铁管减薄机公司，我们提出一种集刻蚀工艺以及清洗工艺为一体的适用于瀑布流式玻璃减薄的液晶玻璃减薄机来解决上述问题。减薄机具有自动测厚补偿、多段研削程序、超负载等待等功能，满足各类工艺需求；浙江铁管减薄机公司

多工位减薄机工件轴包括负压吸盘、负压吸盘驱动轴和固定连接驱动轴上的工件轴齿轮，负压吸盘底部设置有气管旋转接头。对接驱动机构包括固定座、支撑块、工件轴驱动电机、齿轮轴、摆齿齿轮座、驱动主齿轮和驱动从齿轮，其中，工件轴驱动电机安装在固定座上，齿轮轴与工件轴驱动电机的输出轴连接，驱动主齿轮固定在齿轮轴上，摆齿齿轮座安装在齿轮轴上，且摆齿齿轮座可绕齿轮轴自由摆动，驱动从齿轮安装在摆齿齿轮座上且可自由转动，驱动从齿轮与驱动主齿轮啮合连接，摆齿齿轮座在远离驱动从齿轮的一端和支撑块之间连接有弹簧，支撑块上安装有用于对摆齿齿轮座摆动时位置进行限定的限位装置。浙江铁管减薄机公司减薄机可根据客户需求定制化各类工作台，满足各类半导体材料的研削薄化工艺；

随着半导体技术的快速发展，半导体设备也在一代接一代的创新和发展，当今半导体设备的制造和使用涉及50多个学科和60多种化学元素等诸多方面的高技术，具有较强的技术综合性。如：硅、锗晶片(半导体器件)，铌、钽酸锂晶片(声表面波器件)，兰宝石(LED元件)、电子陶瓷(各种传感器)等脆性材料。脆性材料的应用越来越极广，尤其是在高新技术应用领域和前端技术应用领域发挥着不可代替的作用，半导体硅等材料作为集成电路制造的重要基体材料这时候的减薄机就需要发挥他的作用。

液晶玻璃减薄机，包括操作台，操作台的顶部前后两端对称设有两个横向设置的滑轨，两个滑轨上对称滑动连接的首先滑块之间通过连接板连接，两个首先滑块的顶部通过倒U形支座，倒U形支座顶部的直角梯形支座斜面通过支杆与夹装有液晶玻璃的夹具固定连接，操作台的顶部中间位置设有横向设置的倒U形支架，倒U形支架上左右对称设有两个立板，立板前侧面的滑槽上滑动连接有第二滑块，第二滑块前侧面固定螺接有L形支板，L形支板顶部左侧设有纵向设置的出液管道，出液管道的底部等距离排列设有若干喷嘴，喷嘴的内侧设有与L形支板螺接连接的导流板，操作台上且位于两个滑轨的内侧左右对称设有两个与立板垂直对称设置的集液槽。半自动双轴减薄机产品粗磨后移动至精磨位置，自动研削至目标值。

硅片减薄机技术的原理：当前主流晶圆减薄机的整体技术采用了磨削原理设计.为了实现晶圆的延性域磨削，提高减薄质量，通过减小砂轮轴向进给速度实现微小磨削深度,因此，要求设备的进给运动分辨率小于0.1Ixm,进给速度1ixrn/min. 另外，为了提高减薄工艺的效率,进给系统在满足低速进给的前提下，要尽可能实现高速返回。国内外减薄机现状：国外硅片超精密磨床制造起步较早，发展迅速，技术先进其中美国,德国，日本等发达国家生产的硅片超精密磨床技术成熟,表示着减薄机较高水平。目前国外生产的减薄机具有高精度,高集成化,自动化,加工硅片大尺寸化,超薄化等特点。减薄机研磨垫图形大体的功能是研磨垫之孔隙度可以协助研磨液于研磨过程输送到不同的一些区域。浙江铁管减薄机公司

减薄机工作台可根据客户需求进行定制化，应用极广。浙江铁管减薄机公司

硅片酸洗减薄机，包括用于盛装混酸液体的箱体，其特征在于:箱体内设有支架并利用支架支撑有用于装夹硅片的旋转提篮，旋转提篮由两个圆形固定板、横向连接于两个圆形固定板之间的圆柱状围笼、设于两个圆形固定板外侧面的转轴及对称设于两个圆形固定板外周面上的提手组成，圆形固定板、圆柱状围笼和转轴的轴心线重合，圆柱状围笼由围笼本体、与围笼本体铰接的半圆状笼盖组成，半圆状笼盖的开口侧边沿与围笼本体利用锁扣连接，围笼本体底面极低位置处沿围笼本体长度方向均匀间隔设置多个隔棱，箱体外侧一端固定有滑道且滑道上方滑动连接有支座，支座的水平板面延伸向箱体内顶部且水平板面上固定有倒置的伺服电机，伺服电机的电机轴通过传动机构与旋转提篮的其中一侧转轴相连，箱体的内侧壁上另固定有调节温度的耐腐蚀循环水管。浙江铁管减薄机公司

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